Плазменная очистка, модели серии 200

Плазменная очистка приборов производится перед важными операциями (монтаж кристалла, УЗ сварка, герметизация) и необходима для удаления загрязнений и окислений поверхности и ее активации. При проведении плазменной очистки существенно повышается уровень адгезии клеющих составов, улучшается качество соединения при ультразвуковой и контактной сварке.

Эта система с высокой прочностью и надёжностью, оснащённая вакуумным насосом, была спроектирована для производственной фирмы с круглосуточным режимом работы (24/7), в которой останов оборудования не допускается.

Сварная камера, выполненная из алюминия, имеет значительную площадь активной технологической поверхности - 3220 кв.см.

Обработка поверхностей при помощи плазменного травления повышает прочность связи и чистоту поверхности любого материала. Травление с использованием наших плазменных систем, в отличие от травления в флюсовых ваннах, способно устранить образование опасных химических отходов.

Управление всеми аспектами процесса плазменной чистки осуществляется с сенсорного экрана с простым в использовании интуитивно понятным интерфейсом и обеспечивает повторяемость процессов обработки.

Мы можем предложить камеры и электроды с конфигурациями, подходящими под потребности конкретной продукции или конкретного технологического процесса, включая горизонтальные электроды с заказными размерами, систему реактивного ионного травления и кассеты для микроэлектронных корпусов.

Используются кассеты с приборами, которые устанавливаются на полках. Процесс занимает считанные минуты.

Комплект поставки стандартной системы

Сварная вакуумная камера из алюминия размером 43,18 см х 35, 56 см х 35, 56 см

3 горизонтальные технологические уровни электродов размером 33,02 см х 33,02 см, с расстоянием друг от друга 7,62 см

Генератор РЧ мощностью 300 Вт на частоте 13,56 мГц \ Автоматическая схема согласования

2 (две) линии газа (напр., H2/Ar или O2/Ar)

Один датчик удельного массового расхода 200 куб.см/мин.

Манометр, диапазон измерений 0-1 мм.рт.ст.

Микропроцессорная система управления с сенсорным экраном

Хранит до 20 двухоперационных рецептов

Вакуумный насос, с подачей кислорода 8,207 куб.м/мин

Масляный фильтр вакуумного насоса, 3 мкм

Опции

Система защиты от статического электричества

Система регулирования температуры технологического процесса

Генератор РЧ мощностью 600 Вт на частоте 13,56 мГц \ Автоматическая схема согласования на 600 Вт

Вакуумный насос, с подачей кислорода 16, 697 куб.м/мин, 3 фазы

Автоматическая система продувки 2 Point N2 для продления срока службы вакуумного насоса

Сигнальный маяк

Автоматический дроссельный вакуум-регулятор 

Два дополнительных датчика удельного массового расхода (всего 3)

Матрица управления нагнетанием газа на 5 процессов с программной выборкой

Система продувки камеры с регулируемой скоростью потока N2

Коалесцирующий фильтр масляного тумана на выходе вакуумного насоса

Заказные размеры и конфигурации камер

Заказные размеры и конфигурации электродов

Конфигурация системы RIE

Опции оборудования

Паровой скруббер (устройство очистки) с насадкой

Сушитель сжатого воздуха для подачи продувочного газа в вакуумный насос

Характеристики

Система электроснабжения переменного тока, 208-220 В, 50/60 Гц, 30 А, одно- или трёхфазная

Масса системы (Плазменная консоль/вакуумный насос) - 158,9/81,72 кг

Корпус плазменной консоли - 91,24 см х 91,24 см х 81,28 см

Корпус вакуумного насоса - 46,64 см х 81,28 см х 50,8 см

Коммуникации

Система электроснабжения переменного тока, 120/208 В, пятипроводная, трёхфазная или 208 В четырёхпроводная однофазная

Кондиционирование воздуха, без конденсации при менее 85°F

Подача сжатого воздуха – 5.5 – 7 атм, менее 0,5 куб. фут/мин (0,142 куб.м/мин)

Регулируемые технологические газы, 1-2 атм

Существуют другие модели установок с большими камерами и опциями.