Плазменная очистка, модели серии 100
Плазменная очистка приборов производится перед важными операциями (монтаж кристалла, УЗ сварка, герметизация) и необходима для удаления загрязнений и окислений поверхности и ее активации. При проведении плазменной очистки существенно повышается уровень адгезии клеющих составов, улучшается качество соединения при ультразвуковой и контактной сварке.
Система с вакуумным насосом имеет высокую прочность и надёжность. Камера, выполненная полностью из алюминия, имеет более 1550 кв. см активной технологической поверхности при стандартной трёхуровневой конфигурации.
Конструкция системы, пригодная для эксплуатации в чистых комнатах, и рама с покрытием на основе технического порошка защитят ваше технологическое помещение от загрязнения.
Плазменная чистка повышает однородность очищенных поверхностей и снижает, а порой и вовсе устраняет образование нежелательных и часто дорогостоящих химических отходов.
Управление системой осуществляется с сенсорного экрана с простым в использовании интуитивно понятным интерфейсом и обеспечивает безопасную работу и повторяемость процессов обработки.
Мы предлагаем электроды с конфигурациями, подходящими под потребности конкретного заказчика, которые могут также включать систему реактивного ионного травления и систему регулирования температуры технологического процесса.
Используются кассеты с приборами, которые устанавливаются на полках. Процесс занимает считанные минуты.
Комплект поставки стандартной системы
Сварная вакуумная камера из алюминия размером 30,48 х 30,48 х 30,48 см
3 (три) электродные полки размером 22,86х22,86 см, с расстоянием друг от друга 7,62 см
2 (две) линии газа (напр., H2/Ar или O2/Ar)
Генератор РЧ мощностью 300 Вт на частоте 100 кГц
Один датчик удельного массового расхода 0-50 см3
Манометр, диапазон измерений 0-1 мм.рт.ст.
Микропроцессорная система управления с сенсорным экраном, на один процесс
Вакуумный насос, с подачей кислорода 2,264 куб.м/мин
Вакуумный насос, с подачей кислорода 2,264 куб.м/мин и туманоуловителем
Опции
Генератор мощностью 300 Вт на частоте 13,56 мГц
Система защиты камеры от статического электричества
Система регулирования температуры технологического процесса
Заказные конфигурации электрода
Система RIE (Реактивное ионное травление)
Система продувки вакуумного насоса азотом или чистым сжатым воздухом
Опции оборудования
Паровой скруббер (устройство очистки) с насадкой
Сушитель сжатого воздуха (устройство выработки продувочного газа)
Характеристики системы
Плазменная установка размером 43,18 см х 71,12 см х 76,2 см и массой 72,6 кг
Вакуумный насос размером 15,54 см х 45,72 см х 22,86 см и массой 30,87 кг
Коммуникации
Система электроснабжения переменного тока - 220 В, 50 Гц, 13 А
Подача сжатого воздуха – 5.5 – 7 атм, менее 0,5 куб. фут/мин (0,142 куб.м/мин)
Технологические газы с регулировкой, двухступенчатый регулятор
Без конденсации ниже 29,5°С
Существуют другие модели установок с большими камерами и опциями.